中国粉体网讯 随着消费电子类产品的更新换代、新能源汽车产业的蓬勃发展、智能电网的迅速推广以及其它技术领域对高性能电池的旺盛需求，锂离子电池产业必将在未来10年持续高速发展。这为我国锂离子电池负极材料产业的发展提供了很大的机遇，但同时也提出了更高的要求。先进负极材料技术与产业高峰论坛将于2023年2月9-10日在青岛举办。浙江中宁硅业有限公司邀请您共同出席论坛。
浙江中宁硅业有限公司（CNS.,LTD）成立于2007年12月，位于“氟硅之都”浙江省衢州市，公司实际用地300多亩，注册资本2.75亿，2018年4月12日，成为上市公司多氟多新材料股份有限公司控股子公司。公司拥有浙江省重点高纯硅材料研究院，是国家高新技术企业。公司是生产电子级特种气体和新能源电池材料的科技型创新型公司，与浙江大学、西安交通大学、浙江理工大学以及衢州学院都有深入研发合作。公司生产的电子级硅烷被国家科技部评为“国家重点新产品”，多次被评为“中国新型显示产业链发展特殊贡献奖”；2021年公司被评为浙江省“专精特新”企业。公司生产的高纯硅烷、乙硅烷、四氟化硅、纳米硅粉是半导体、液晶、光伏行业发展不可或缺的材料，是国家和省应急攻关替代进口的重点发展产品。公司生产的硅烷，是国内唯一一家同时进入半导体、液晶、光伏和镀膜玻璃四个行业的硅烷生产厂家。
一.厂区展示
1.厂区综合楼
2.充电站
3.四氟化硅车间
4.制氢车间
5.总变电所
二.产品展示
1.纳米硅
产品简介
1.用纳米硅做成纳米硅线用在充电锂电池负极材料里，或者在纳米硅表面包覆石墨用做充电锂电池负极材料，提高了充电锂电池3倍以上的电容量和充放电循环次数；
2.纳米硅用在耐高温涂层和耐火材料里；
3.纳米硅可以应用到涂料中，形成硅纳米薄膜，被大量应用到太阳能上面；
4.纳米硅与金刚石高压下混合形成碳化硅---金刚石复合材料，用做切削刀具。
5.是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件、半导体分立器件、功率器件、集成电路和外延衬底等。
6.用于制晶体管、整流器和太阳能电池，还用于制高硅铸铁、硅钢、各种有机硅化合物等。
7.用于制合金、有机硅化合物等，是一种极重要的半导体材料。
8.替代纳米碳粉或石墨，作为锂电池负极材料，大幅度提高锂电池容量。
9.可与有机物反应，作为有机硅高分子材料的原料，也可作金属表面处理。
常见制备方法：西门子法；改良西门子法；硅烷法；磷化学法
产品性能
1.高纯纳米硅粉是黄色粉末的外观，具有无毒、无味、活性好的特点。
2.纯度高、粒径小、分布均匀、比表面大、高表面活性、松装密度低。
3.纳米硅粉是新一代的光电半导体材料，具有较宽的间隙能半导体，纳米晶活性强、烧结温度低、强韧性高、介电损耗强，也是高功率的光源材料
4.作为锂电池负极材料纯度高、球形度高、分散性能好、电化学性好承载能力强、粒径小、分布均匀，比表面积大、高表面活性，松装密度低，活性好等特点优势。
5.纳米硅粉在燃料电池里可替代纳米碳粉，降低了成本。
6.在密封的干燥阴凉的环境下，不宜长时间的暴露在空气下，防止受潮而发生团聚，影响分散性能和使用效果，还要避免与氧化剂接触。
2.高纯硅烷
产品简介
高纯硅烷，纯度6N（99.9999%），广泛应用于电子行业、太阳能电池、移动通讯、汽车导航、航空航天、军事工业等。国家战备武器研究和神州七号运载火箭上的控制系统的电子原器件的制造，以及卫星上使用的太阳能电池的制造等方面所急需的高纯硅烷气体全部依靠进口。高纯硅烷跟高纯氨气一起用于生产太阳能薄膜电池将硅分子附着于电池表面
跟高纯乙烯一起用于LOW-E镀膜玻璃的生产。高纯硅烷应用于大规模集成电路的外延生长工艺中用作硅源应用于国防、军事工业的研发、生产等方面。硅烷在平板显示生产中也有重要的用途如用于低温二氧化硅CVD、用于氮化硅CVD。我公司的高纯硅烷产品质量技术指标基本与国外进口硅烷水平一致，我司硅烷产品目前已经在国内半导体行业已有应用、其中在TFT（液晶屏）行业市场占比50%，如若出现断供断链情况，我公司年产2100吨硅烷技改项目完成后年产可达到4000吨，完全能够满足国内市场需求。
创新点：两步法闭合循环高纯四氟化硅生产技术的研究开发；逆向反应法；自清洗提纯；硅烷高频率检测技术。
技术关键：采用两步法闭合循环高纯四氟化硅生产技术；对流式反应技术；粗硅烷清洗技术；电子级硅烷提纯技术；高纯硅烷产业化充装技术。
高纯硅烷，纯度6N（99.9999%），高纯硅烷在常温常压下为恶臭的无色气体，在空气或肉素气体中发生爆炸性燃烧。其不溶于乙醇、乙醚、苯、氯仿和四氯化硅，不与润滑油、脂肪反应，对几乎所有的金属无腐蚀性。易燃易爆，纯度要求高，提取技术难度高，是运用影响最广最大的。它原料廉价易得，成本优势明显。反应条件温和、操作运用简单、易于控制，便于实现自动化，适合大规模的生产。反应过程中杂质少，纯度高，简化硅烷提纯的难度，进一步降低设备投资与生产成本。相对产生的副产品可直接用于生产无机氟化物，带来了显著地经济效益和环境效益。随着中国的高速发展，我国的高纯硅烷产品质量优于美国、白俄罗斯等发达国家所用标准。对于高纯硅烷的硅化镁合金法。四氟化硅还原法等提纯方法，我公司运用新型制备方法，解决了先生产中繁琐、成本高、耗能、纯度低等问题，为高纯硅烷的生产开辟新路径。
3.四氟化硅
产品简介
高纯四氟化硅是电子和半导体行业中重要的电子特气之一，主要用于硅化钽、氮化硅等的蚀刻剂、P型掺杂剂及外延沉积扩散硅源，还可以用于制备电子级硅烷或多晶硅。 2.由于四氟化硅在高温火焰中水解可以产生具有高比表面积的热沉SiO2，还可以用于制作光导纤维用高纯石英玻璃。 3.在光纤生产技术中，四氟化硅是制造硅基半导体器件时所采用的离子注入法的重要成分。 4.四氟化硅还广泛应用于生产水泥、电子材料、太阳能电池元件、复印机感光鼓、特大规模集成电路等产业 5.随着激光在有机反应应用的发展，四氟化硅在光敏剂产业也得到了越来越广泛应用。 6.四氟化硅的工业化生产主要在美国和日本，如美国的联合化学公司、普莱克斯公司、空气产品公司。 7.日本的中央硝子公司、昭和电工化学公司、三井化学公司等。 8.随着半导体工业的飞速发展，四氟化硅的需求量也越来越大，对其纯度要求也越来越高，目前国内也开始大力发展四氟化硅的制备工艺，但纯度及产量较低，高纯四氟化硅产品仍依赖进口。因此，突破国外半导体新材料制备关键技术垄断封锁，自主研发低成本高产量的四氟化硅制备技术工艺，实现国产产业化生产，应急攻关关键技术核心，满足市场依赖进口局面，提高企业竞争力，实现国产化具有非常重要的意义。
产品性能
1.四氟化硅在常温下为无色、有毒、有刺激性臭味的气体，溶于乙醇、醚、硝酸、氢氟酸，在潮湿的空气中可产生浓烟雾，生成硅氧化物和氟化氢。 2.四氟化硅可与碱性物质产生剧烈反应，与大部分含有水汽的材料反应生成极易燃的氢气。 3.高纯四氟化硅在电子气体和半导体行业中发挥着举足轻重的作用，因此对四氟化硅气体的杂质进行脱除和净化，对于加快四氟化硅气体的推广应用具有重要的意义。 4.国内外有关5N（99.999%）级高纯四氟化硅电子特气研究内容主要分为四氟化硅制备工艺技术和四氟化硅粗料提纯工艺技术两个方面。 5.四氟化硅气体的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性，是我国亟待攻克的电子与半导体行业的“卡脖子”技术产品。 6.国内外对四氟化硅气体的制备与应用有很多制备四氟化硅的方法，但每种方法都存在着有优势与不足，目前国内市场上的高纯四氟化硅产品，存在总金属杂质含量高的缺点，无法满足半导体行业对电子特气的需要，高品质的四氟化硅产品主要依赖美国和日本进口，针对市场需求，开发高层次、高品质，以适应国内需求参与国际竞争。
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