中国粉体网讯 近日，据浙江博来纳润电子材料有限公司消息，博来纳润研发团队推出的钽酸锂LTPOL-124、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款抛光液通过客户实测验证，正式问世。
博来纳润官网
在科技飞速发展的当下，钽酸锂（LT）作为一种优良的多功能晶体材料，凭借其优良的压电、电光和热电性能，以及机电耦合系数大、低损耗、高温稳定性和高频性能好等特点，被广泛应用于移动通信、卫星通信等民用及军事领域。可以说，从我们日常使用的手机，到关于国防安全的雷达，钽酸锂都在发挥着巨大作用。
在抛光加工这一环节，常见的抛光技术如机械抛光、化学抛光、磁研磨抛光、流体抛光、电化学抛光、离子束轰击抛光、浮法抛光等，均属于局部平坦化技术，且平坦化能力从几微米到几十微米不等，但是国际上普遍认为，加工工件特征尺寸在0.35μm以下时，必须进行全局平坦化，化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技术被誉为是当今时代能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平坦化的唯一技术，化学机械抛光的效果直接影响到芯片最终的质量和成品率。
然而，钽酸锂属于硬脆材料，钽酸锂抛光往往要耗费大量时间，难度增加，如何高效完成CMP工艺，成为了棘手难题。
日前，博来纳润公司钽酸锂LTPOL-124、LTPOL-125A/B、LTPOL-126A/B三款抛光液通过客户实测验证，正式问世。该产品线覆盖碱性、中性、酸性各加工工艺的需求，且均具备优异的去除速率、高储存稳定性和抛光后易清洗等优点。这个系列的抛光液产品就像为钽酸锂加工量身定制的神奇钥匙，有望开启国产化抛光液的高效抛光新时代。
碱性抛光液LTPOL-124：引航抛光速率新高度
碱性抛光液LTPOL-124与竞品液的性能比较，以及抛后粗糙度
当1kg抛光液循环3个小时，全程无需加液和调整pH，LTPOL-124相较竞品速率提升10-20%。而且，无论在何种稀释比的条件下，LTPOL-124均有着更高的去除速率，且保持着＜0.2 nm的抛后粗糙度，这代表着极为优异的超精密加工水平。
中性抛光液LTPOL-126A/B：比日本进口产品具有更高的稀释比，更具性价比
中性抛光液LTPOL-126A/B与日本竞品液的性能比较，以及抛后粗糙度
同样使用1kg抛光液循环抛光3小时，中途不加液，不调整pH，LTPOL-126A/B相较竞品显示出更高的速率，且抛后粗糙度＜0.2 nm。这款产品使用博来纳润自制硅溶胶，不仅超过了日本进口产品的性价比，而且产品还不易结晶和划伤，为国内企业提供更优质、更经济的选择。
酸性抛光液LTPOL-125A/B：高去除速率，有望重塑市场格局
酸性抛光液LTPOL-125A/B与传统碱性配方竞品的性能比较，以及抛后粗糙度
对于追求高去除速率的市场需求，LTPOL-125 A/B 无疑提供了一个很好的选择。1kg抛光液循环抛光3个小时，中途不加液、不调整pH的情况下，相较传统碱性配方竞品，LTPOL-125 A/B速率提升1.8-2倍，且循环3个小时后，速率衰减<15%，抛后粗糙度＜0.25 nm，表现出色。
参考来源：
[1] 博来纳润官网
[2] 燕禾等，化学机械抛光技术研究现状及发展趋势
[3] 严嘉胜等，硅晶片化学机械抛光液的研究进展
[4] 夏琳，硅溶胶化学机械抛光液的研究
（中国粉体网编辑整理/山林）
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