电吸收调制激光器(EML)质量控制——PLATO-MicroScan 全自动微区光致发光成像仪


来源:HORIBA(中国)

电吸收调制激光器(EML)正逐步成为光通信行业焦点,2024年全球市场规模已达约44.2亿。EML 作为电吸收调制器(EAM)与分布式反馈激光器(DFB LD)的集成器件,其性能依赖于纳米级光栅工艺,波长微小偏移即影响性能与良率。传统大光斑光致发光(PL) 检测无法揭示微米级结构的PL波长分布细节,HORIBA 全自动微区光致发光成像波长表征系统,助力 EML 质控。


PLATO MicroScan

全自动微区光致发光成像

全自动 | 高精度 | 集成化

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对于激光器的制备,器件波长的工艺准确性至关重要。尽管可以通过对芯片结构区域的光致发光(PL)光谱的检测,验证工艺制备结果,然而晶圆大光斑的整片 PL 扫描结果无法准确表征微结构 PL 发光特征,亟需微区 PL 扫描设备。


HORIBA PLATO-Microscan 是结合大光路和显微光路的集成 PL 量测系统。光谱范围可覆盖可见到近红外,常用于基于 InP 材料的激光器制作中的外延质量控制。对于微观结构,可提供多种不同倍数目镜的选择,从而对微米级结构进行清晰表征。


仪器特点

PLATO-Microscan 兼具 Macro & Micro 两种 PL 成像功能,可自由选择面扫模式,其光斑自动聚焦功能与高坐标定位精度,帮你轻松获取目标区域的微区结构 PL 光谱。


EML 晶圆的 PL 分析

微区 PL 表征可以反馈对应区域结构的制备均匀性,缺陷位置程度目标波长偏离程度等。


PLATO-Microscan 能够有效区分不同结构的 PL 光谱。下图为 EML 晶圆某区域的 PL 光谱,不同结构的特征光谱被有效区分并精准表征,图中不同颜色的光谱分别对应了不同的微区结构或结构层级深度。


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左边为 AOI 成像图,右侧为显微 PL 的峰值波长(PW)成像图。测试条件:980 nm 激光激发,测量区域1 mmx1 mm(步进:3 μm)


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可调谐激光器晶圆某区域的 PL 光谱。PW:峰值波长:EAM: 电吸收调制器;MQW:多层量子阱


PLATO-Microscan 的微区 PL 成像展现出高空间分辨率。通过对区域范围和步进的选择,可以调整 PL 光谱表征的细节程度和时长。图中对晶圆上的单个结构进行了细节扫描(400 μm x 400 μm, 1 μm step),能够看到清晰的区域分界和瑕疵点,以供分析。


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EML 晶圆某区域的 PL面扫波长(左)和强度(右)结果示例

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