中国粉体网讯 近日，国家知识产权局信息显示，深圳中机新材料有限公司申请一项名为“一种用于金刚石衬底的精抛液及其制备方法、金刚石衬底的抛光方法”的专利，公开号CN120365854A，申请日期为2025年04月。
本发明公开了一种用于金刚石衬底的精抛液及其制备方法、金刚石衬底的抛光方法，涉及金刚石加工技术领域。用于金刚石衬底的精抛液包括第一精抛液或第二精抛液，其中：第一精抛液包括以下原料：第一磨料1-7份、分散剂0.1-1份、悬浮剂0.1-1份、氧化剂2-3份，余量为水，合计100份，第一磨料包括金刚石或氧化铝；第二精抛液包括以下原料：第二磨料89-97份、分散剂0.1-1份、氧化剂3-10份，合计100份，第二磨料包括硅溶胶。通过氧化剂提高金刚石衬底的表面能，软化表面，使金刚石衬底更容易与磨料进行物理切削；通过加入分散剂和悬浮剂使磨料颗粒分散均匀，获得相对一致的加工表面。
金刚石作为一种具有极高硬度和硬脆特性的材料，广泛应用于各个领域，如电子、光学、工具加工等。目前需要对金刚石晶体进行切割、研磨、抛光等工序才能够对金刚石进行工业化利用。
金刚石抛光技术主要有机械抛光、热化学抛光、激光抛光和化学机械抛光等，其中化学机械抛光（CMP）通过在机械抛光过程中加入氧化剂，氧化碳原子提高抛光速率，是一种利用机械与化学氧化协同作用来实现工件表面平坦化的技术，具有表面损伤小、粗糙度低、设备简单、运行维护成本低，抛光后的表面污染较轻等优点。
化学机械抛光装置示意图
但由于金刚石的化学惰性极高，硬度极高，常规的抛光液难以达到理想的超光滑表面和无损伤表面，因此市面上用于金刚石衬底的精抛液几乎没有。因此开发可用于金刚石衬底的精抛液，对于克服金刚石抛光工艺中存在的抛光速率低、表面粗糙度低、表面质量差等缺陷具有重要意义。
关于中机新材
深圳中机新材料有限公司（简称中机新材）是一家专注于高硬脆材料和高性能研磨抛光材料的技术研发、生产及销售的高新技术企业。有近百项发明专利；荣获2022年中国创新创业大赛全国赛新材料组优秀企业奖；尤其在第三代半导体晶圆研磨抛光应用领域，公司取得多项关键性技术突破，持续为客户高质量稳定供应。产品广泛应用于半导体、光电、3C、新能源等领域。
产品图，图源：中机新材官网
参考来源：
1.国家知识产权局、中机新材
2.安康等.金刚石化学机械抛光研究进展
（中国粉体网编辑整理/石语）
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