苏州锦业源自动化与您相约重庆!2025第二届全国高纯氧化铝粉体制备技术及应用交流大会


来源:中国粉体网 粉享汇   粉享汇

[导读]  2025第二届全国高纯氧化铝粉体制备技术及应用交流大会,9月19日,相约中国·重庆

中国粉体网讯 高纯氧化铝粉体具有普通氧化铝无法比拟的光、电、磁、热和机械性能,是配套航天航空、半导体、核能、新能源、冶金、生物医疗、照明、机械、化工等众多工程领域的重要新材料,是现代化工附加值最高、应用最广泛的高端材料之一。在此背景下,中国粉体网将在中国·重庆举办2025第二届全国高纯氧化铝粉体制备技术及应用交流大会,大会旨在搭建高纯氧化铝上下游技术交流、信息互通的沟通平台,促进我国高纯氧化铝行业技术与产业发展突破。


2025第二届全国高纯氧化铝粉体制备技术及应用交流大会组委会获悉,本届会议将于2025年9月19日中国重庆举办。苏州锦业源自动化设备有限公司作为参展单位邀请您共同出席。




苏州锦业源自动化设备有限公司(隶属于锦源科技控股有限公司)成立于2011年8月,是一家专业从事半导体封装、电子陶瓷(LTCC,HTCC)生产及设备代理的专业服务商,尤为擅长提供微组装整线及电子陶瓷整线工艺、生产解决方案和技术支援。


目前,公司主要合作伙伴来自欧洲及日本,合力为业界广大客户提供一流的产品及方案,同时提供专业技术顾问,咨询服务。


公司发展至今,培养了具备核心竞争力的人才团队,拥有具备专业素养的若干售前、售后及销售人员,可积极快速响应客户要求并提供优质、高效、称心的服务,为客户创造价值,赢得效益。


基于客户多年来的信任及认可,我们将持续秉承技术引领方向、经验规避风险、服务决定未来、伙伴一起成长!”的宗旨,推动行业发展,精心服务用户,求是创新,更创辉煌!



产品介绍


1、全自动单晶圆清洗机 AST-T02-CL



设备功能及特点:


晶圆全自动清洗机,8”/12” 共享机台,切换只需更换FOUP内 Adaptor。

具备多功特性,针对不同应用,集成不同功能。具备高速离心旋转、HPC、二流体、SC1 化学清洗及能加装兆声波等功能。

适用于 Particle 清洗、Flux 清洗及光阻残留清洗等制程 。

流场模拟腔体设计,独特的密封设计,为制程提供最洁净的清洗环境。

友善的软件接口,提供量产和工程安全便利的芯片制程。


2、单晶圆/陶瓷片超声波光阻喷涂机




设备功能及特点:


本机是全自动的超声波喷涂机台,可实现取片、对位、喷涂、去边、烘烤、放片等全自动作业。超声波喷涂是利用压电材料将电能转换为机械能,以震荡的方式来雾化流体,可以得到均匀且微细的涂布液滴,以温和且微细的液滴从基材正上方开始沉积涂布,阶梯覆盖率的表现更为优越,也能有效提高材料利用率。利用转速跟喷头移动速度做配合,进行连续性的旋转喷涂,可有效提高产能,更可消除一般设备来回喷涂时,因路径不同所造成的膜厚落差。并且本机采用大口径的供料流道设计,能有效避免管路堵塞的发生,减少设备停机维修时间,提高设备使用的稼动率。腔体结构导入流场数值模拟规划,用以进行优化流道几何设计,避免粒子回流污染涂布腔体。


3、高精度光刻机





设备特点:


UV-LED光源

安全又环保 无需预热冷却


选用 UV-LED 光源不再需 要预热和冷却,因为 LED 仅 在曝光期间打开。这些因素 显着有助于相对较低的能源 消耗。LED 的使用寿命比传 统灯高出许多倍,从而降低 了更换灯泡所产生的成本。 停工、购买新灯、调整和处 理旧材料都已成为过去。使 用 LED 灯箱既安全又环保, 是健康和职业安全以及环境 保护方面的重要进步。


高精度自动套刻系统

性能提升 品质升级


作为全场曝光系统, CI-150A/CI-200A能够一 次曝光150mm/200mm 晶圆,此系统光均匀性已 超过95%,更能提升产 品品质。它更高的吞吐 量和更低的投资成本直 接转化为更低的拥有成 本,使其成为适用于各 种光刻工艺的最佳决方案。


卓越的光均匀性

高精度 更精准


采用顶部对 准系统, 选用高 清相机及大视野 镜头, 纳米级对 位承载平台以及 低频隔振系统, 在将掩模定位在 晶圆上时可实现 低至 0.5 μm 的 对准精度 。




会务组

联系人:李先生

电话:15563675367

邮箱:3261140559@qq.com



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