产业周报:智造新动能:半导体CMP技术创新与绿色智造生态构建


来源:中国粉体网   山林

[导读]  产业周报:智造新动能:半导体CMP技术创新与绿色智造生态构建

中国粉体网讯


博来纳润钽酸锂衬底CMP抛光液再升级


近日,据浙江博来纳润消息,博来纳润研发团队推出的三款钽酸锂衬底CMP抛光液通过客户实测验证。该产品线覆盖碱性、中性、酸性各加工工艺的需求,且均具备优异的去除速率、高储存稳定性和抛光后易清洗等优点。


博来纳润官网


万华化学取得一项名为“一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用”的专利


近日,国家知识产权局信息显示,万华化学取得一项名为“一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用”的专利,能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率,还可延长抛光垫的使用寿命。


来源:国家知识产权局


鼎龙股份:公司CMP抛光垫产品具备5大优势


近日,鼎龙股份发布投资者关系活动记录表,公司接受3家机构调研。公司将二十多年来产品开发和成果转化的技术经验进行积累、整合,打造七大技术平台,CMP抛光垫产品具备5大优势,实现了多项“卡脖子”核心材料的国产化替代和产业化生产。



金太阳:已向富士康等头部企业提供抛光材料和智能设备及自动化服务


近日,金太阳发布公告称公司接待平安基金等13家机构调研。在接待调研公告中披露,公司已向富士康、捷普绿点、长盈精密等头部制造企业主要供货产品为抛光材料和智能设备及自动化服务。



电科装备形成8至12英寸碳化硅材料加工智能解决方案


近日,据科技日报消息,中电科电子装备集团有限公司培育了晶锭减薄设备、激光剥离设备、晶片减薄设备、化学机械抛光设备等明星产品,形成8至12英寸碳化硅材料加工智能解决方案。




山东大学取得一项名为“一种基于芬顿反应的碱性氮化镓抛光液及其制备方法”的专利


近日,山东大学取得一项新专利,该发明提供的抛光液对环境友好,不腐蚀加工设备,成本低,性质稳定,无需外加辅助设备操作更方便,可长时间稳定存储。



昂士特取得一项名为“一种用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法”的专利


近日,昂士特取得一项新专利,该发明中的组合物能用于金属合金基材平面的抛光,其具有接近中性的pH值,无腐蚀抛光设备中的金属部件的风险。



凯盛科技:2024年营收48.94亿元!氧化锆研磨球等新品研发取得多项突破


近日,凯盛科技发布2024年业绩报告,报告期内,公司实现营业收入489,382.19万元,实现利润总额24,035.37万元,部分新产品受到市场认可。



(中国粉体网编辑整理/山林)

注:图片非商业用途,存在侵权告知删除!


推荐6
相关新闻:
网友评论:
0条评论/0人参与 网友评论

版权与免责声明:

① 凡本网注明"来源:中国粉体网"的所有作品,版权均属于中国粉体网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:中国粉体网"。违者本网将追究相关法律责任。

② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。

③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

粉体大数据研究
  • 即时排行
  • 周排行
  • 月度排行
图片新闻