中国粉体网讯 2024年12月27日消息，国家知识产权局信息显示，科菲材料技术(浙江)有限公司取得一项名为“一种氮化铝陶瓷抛光工艺”的专利，助力获得表面粗糙度小且无刮伤的氮化铝陶瓷基板。
发明专利申请 来源：国家知识产权局
氮化铝是原子晶体，属类金刚石氮化物，最高可稳定到2200℃。室温强度高，且强度随温度的升高下降较慢。导热性好，热膨胀系数小，是良好的耐热冲击材料。抗熔融金属侵蚀的能力强，是熔铸纯铁、铝或铝合金理想的坩埚材料。氮化铝还是电绝缘体，介电性能良好，用作电器元件也很有希望。砷化镓表面的氮化铝涂层，能保护它在退火时免受离子的注入。氮化铝还是由六方氮化硼转变为立方氮化硼的催化剂。室温下与水缓慢反应，可由铝粉在氨或氮气氛中800~1000℃合成，产物为白色到灰蓝色粉末。
氮化铝的抛光对其应用来说十分重要。化学机械抛光( CMP )是一种工件表面全局平坦化的工艺技术，被应用于微纳米级材料表面的抛光。化学机械抛光系统主要由抛光液、抛光垫和抛光头三部分组成，其基本原理是工件材料表面与抛光液中的氧化剂发生化学反应，生成一层软质层，在外加压力下磨粒与工件材料表面发生机械磨削作用去除软质层，然后工件表面再次发生化学反应，通过化学作用和机械作用交替进行，直至工件表面抛光完成。
科菲材料技术(浙江)有限公司本次发明属于研磨抛光技术领域，具体涉及一种氮化铝陶瓷抛光工艺。该抛光工艺包括以下步骤：将氮化铝陶瓷基板置于抛光垫上，加入抛光液进行抛光；所述抛光液由如下重量份组分制成：将15‑20份复合磨料、2‑4份氧化剂、8‑10份功能化合物和60‑70份水混合成溶液，并使用有机酸调节溶液的pH值为4‑4.5。发明所提供的抛光液具有良好的悬浮稳定性及抑菌性能，使用抛光液对氮化铝陶瓷基板进行抛光处理，具有较高的抛光速率，抛光效果好，能够获得表面粗糙度小且无刮伤的氮化铝陶瓷基板。
来源：国家知识产权局
科菲材料技术(浙江)有限公司前身为衢州市科飞陶瓷有限公司，创办于2008年，是申澜材料的成员企业。公司是一家充满活力的科技型创业公司，主要从事与半导体先进封装相关的电子陶瓷封装基板的研发、生产、销售与服务。公司坚持材料制备与精密加工的紧密结合，为客户提供快速的一站式综合解决方案。公司以技术为支点，以高速发展的先进封装技术为基础，专业生产及加工高性能氮化铝、氧化铝、微波介质材料、石英、蓝宝石等各类电子功能材料。以材料为基础，应用为导向，面向微电子、光电子、功率电子、微波射频等领域，为技术发展提供材料支撑。
来源：科菲材料技术(浙江)有限公司官网
参考来源：
[1] 王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
[2] 科菲材料技术(浙江)有限公司官网
[3] 国家知识产权局
（中国粉体网编辑整理/山林）
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