【原创】DUV光刻对掩模石英基板的挑战和解决方案


来源:中国粉体网   九思

[导读]  珠海奕源朴键镐将带来题为《DUV光刻对掩模石英基板的挑战和解决方案》的报告

中国粉体网讯  光掩模技术作为半导体技术中的重要组成部分,其制作材料包含玻璃基板、镀铬膜层、光刻胶、光学膜等,其中玻璃基板为主要的原材料。


玻璃基板主流分为石英玻璃基板与钠钙玻璃基板,石英玻璃基板以高纯石英为基材,在DUV波段具备优异的光学透过率、极低热膨胀系数、均匀的光谱响应,同时硬度更高、抗辐照老化与使用寿命显著优于钠钙玻璃,是高精度光掩模基板的首选基材。随着KrF、ArF等DUV光刻工艺持续向先进制程延伸,掩模石英基板对材料纯度、光学均匀性、双折射、面形精度、缺陷控制、抗DUV辐照稳定性的指标持续收紧,对应制备工艺门槛大幅抬升,石英玻璃基板的市场需求也随之稳步增长。


石英玻璃基板完整制备链路涵盖高纯石英锭熔制、热成型、精密冷加工、表面超光滑抛光、清洗与检测等环节,每一道工序的微小偏差,都会直接转化为光刻图形偏移、套刻误差、成像畸变,因此全流程管控规范极为严苛。DUV掩模基板的核心难点集中在几个维度:一是合成石英本体的杂质、羟基含量控制,杂质与羟基会造成193nm波段吸收上升、辐照后透过率衰减;二是折射率均匀性与双折射控制,容易引发光场畸变、成像失真;三是超精密面形、平整度、局部波纹度与纳米级缺陷管控,微小凸起、划痕、杂质颗粒都将成为光刻致命缺陷;四是基板在长时间DUV曝光下的体积稳定性、应力演化与形变控制,热积累与光致形变会持续影响掩模成像位置精度。


长期以来,高端DUV级掩模石英基板供给高度集中,美国康宁、德国贺利氏和日本信越等公司几乎垄断了产业需求供给。国内有数家企业有能力生产,但制备技术和加工技术方面较落后,产品应用也多是中低端市场,不能规模化、持续稳定提供高端产品。面对巨大的国内市场,众多厂家开始光掩模石英玻璃基板的研制,对相关的制造工艺进行摸索与改良。


珠海市奕源科技有限公司(简称“珠海奕源”)成立于2024年,总部位于广东省珠海市金湾区,是一家专注于半导体产业链上游关键材料研发与制造的高科技企业。该公司由北京奕斯伟科技集团生态链开发业务板块孵化,并由珠海科技集团战略领投,是珠海市2024年首个百亿级招商项目。主要产品包括半导体合成石英刻蚀环、掩模版石英基板、空白掩模版及碳化硅功率模组载板,致力于为半导体行业提供高纯度、高可靠性的上游关键材料及部件解决方案。


针对DUV光刻掩模石英基板面临的材料、加工、稳定性等系列挑战,珠海奕源团队从基材源头、精密加工、后处理、质量检测多维度搭建对应技术方案。优化合成石英气相沉积熔制工艺,严控羟基、金属杂质含量,提升DUV波段透过率与抗光致衰减能力,降低辐照诱导的折射率漂移。依托原贺利氏石英资深专家领衔的核心团队,珠海奕源持续对标国际头部厂商指标,推进DUV掩模基板产品验证与送样,推动空白掩模基板的国产化落地。


2026年11月19-20日,中国粉体网将在安徽·凤阳举办“2026第十届全国石英大会暨展览会”。届时,珠海奕源科技有限公司Blank Mask销售中心负责人朴键镐将带来题为《DUV光刻对掩模石英基板的挑战和解决方案》的报告。他将结合公司产品实际生产情况,解读DUV光刻对掩模石英基板的挑战及其解决方案。



朴键镐,珠海奕源IC掩模石英基板销售中心负责人,前贺利氏石英高级副总裁,石英玻璃专家。


参考来源:

珠海市发展和改革局;珠海特区报;每日经济新闻

Junyi Wen.Changchun University of Science and Technology

陈娅丽等:光掩模石英玻璃基板的制造工艺概述


(中国粉体网编辑整理/九思)

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