光学原子级制造技术——超光滑抛光技术研究与应用探索


来源:中国粉体网   山林

[导读]  光学原子级制造技术——超光滑抛光技术研究与应用探索

中国粉体网讯  超光滑抛光技术是用于加工制造超光滑表面光学元件的极端光学加工技术,属于典型的光学原子级制造技术,是我国亟需攻克的重大共性关键核心技术。超光滑表面光学元件是尖端超精密光学系统、先进精密光电产品设备的关键基础,开展实现表面粗造度皮米级别的超光滑抛光技术研究,研制表面粗糙度优于100pm的超精密光学元件,是现代短波光学、强光光学、电子学及薄膜科学等领域的发展需要。


针对高端研磨抛光相关的技术、材料、设备、市场等方面的问题,中国粉体网将于2026年4月15日-4月16日河南郑州举办2026高端研磨抛光材料大会暨半导体与光学材料超精密加工论坛。届时,成都贝瑞光电科技股份有限公司董事长张旭川将作题为《光学原子级制造技术——超光滑抛光技术研究与应用探索》的报告。报告将从超光滑抛光技术发展趋势、超光滑表面质量指标的定义及其作用原理以及贝瑞光电在多个领域研制的极端性的超光滑光学元件和作用,对超光滑抛光技术、超光滑光学元件及其应用作轮廓结构性的交流探索。


专家简介:



张旭川,研究员,国家科技专家库专家、工信部原子级制造专家库专家、中国光学工程学会理事,曾任多个国家重大科技专项项目专家组组长、副组长,四川省重大科学仪器设备开发专项专家组组长。2001年至今任贝瑞光电董事长,长期从事超精密光学元件、特种光电探测仪器研究开发工作,领导贝瑞光电承担完成了国家科技部、国家工信部等多项科技创新项目、技改项目。受科技部邀请参与国家中长期科技发展规划2021—2035编制研究咨询。


参考来源:

中国粉体网


(中国粉体网编辑整理/山林)

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