沈阳恒进真空科技与您相约江苏!2025第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会


来源:中国粉体网 粉享汇   粉享汇

[导读]  2025第三代半导体SiC晶体生长技术交流会,8月21日相约江苏·苏州

随着科学技术的飞速发展,半导体材料的革新速度也进一步加快。当前,碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,在新能源汽车、光伏、储能等新兴领域正快速渗透,已成为全球半导体产业的前沿和制高点。同时,我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域,碳化硅半导体将在我国5G基站建设、特高压、城际高速铁路和城市轨道交通、新能源汽车充电桩、大数据中心等新基建领域发挥重要作用。


近年来,我国在SiC材料领域取得了显著进展,但与国际先进水平相比,在晶体生长技术、晶圆加工技术等方面仍存在一定差距。SiC晶体生长过程中面临着晶体缺陷控制、生长速率提升、晶体质量稳定性等难题;晶圆加工方面,则存在加工精度不足、良品率低、加工成本较高等挑战。在当前倡导节能减排的大趋势下,快速稳定地突破碳化硅单晶尺寸和质量等关键问题,才能够更好地占据未来碳化硅市场。


在此背景下,中国粉体网将于2025年8月21日江苏·苏州举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会,大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。沈阳恒进真空科技有限公司作为参展单位邀请您共同出席。





沈阳恒进真空科技有限公司是专业从事真空设备研发及制造的科技型股份制企业。多年来恒进真空研制了温度从100℃到 2200℃、装料方式从卧式水平装取到大型立式底部装取的各种炉型,形成了雄厚的技术积累。被评为99年国家重点新产品,同时申请并获得了多项技术专利。


自成立以来,恒进真空生产制造的高真空烧结炉、高压气淬炉、高真空钎焊炉、高真空退火炉、真空回火设备、真空氮化设备、真空晶化设备、真空快淬设备、真空储藏柜、真空操作箱、真空干燥器等各类真空设备已 达1000 多台,产品遍及国内20多个省,广泛应用在材料、IT产业、冶金、机械等领域。目前恒进真空已在山西、浙江地区设立了客户服务中心,至今已拥有 300多名客户,其中不乏一些知名企业,如:北京钢铁研究总院、北京大学、中科院高能物理研究所、中科院沈阳金属研究所、中科院长春光机所、中科三环、宁 波韵升、安泰科技、太原刚玉,并且已有部分产品出口到韩国、泰国、越南。


恒进真空一贯坚持“值得信赖”为企业的文化理念和发展基石,力争把恒进办成让客户信赖、让员工信赖、让股东信赖、造福社会的企业常青树。


客户对恒进的信赖来源于企业的优良产品与服务,是客户对恒进长期诚信经营的回报;


员工与企业之间相互信赖,企业为员工提供发挥聪明才智的空间,让员工对企业未来与自己未来充满信心,进而提升员工的忠诚度;


股东对恒进的信赖是恒进获得长足发展的基础。

恒进真空坚信“值得信赖”并“富有社会责任感”是企业赢得社会各界支持和可持续发展的保障。

恒进真诚地希望:广大客户对恒进做更深层次的了解,热情盛邀贵方光临我公司访问指导。恒进真空愿将企业的科技进步成果和企业文化与广大客户共享。


产品介绍


1、真空热压炉




性能特点


1.节能性高 :保温材料采用低导热系数优质保温棉,节能效果明显。

高效换热器,在大风量换气条件下箱内仍有较好的温度均匀度和波动度。 工作过程中工作室内挥发气体始终处于低浓度,使绝缘漆中溶剂蒸发速度加快,缩短了干燥时间,节能效果明显。

2. 安全系数高 :精选国内外名牌电器元件,控制系统安全可靠,温控系统灵敏。 设超温报警保护系统,箱内温度异常时切断加热电源并发出声光报警。 低表面负荷、低表面温度的加热器,消除了引发燃烧或爆炸的最主要危险源。 超压保护系统,当风压异常时(即排气不正常时),会发出声光报警并切断电源,确保安全。 全程大风量换气方式,使箱内危险气体浓度始终处于安全范围以内。箱体设有大面积防爆门,在发生意外时可使损失降低到最低限度。

3.温度均匀性好:良好的温度均匀性全循环换气方式和独特的大风量热风循环系统,使设备在整个加热过程中具有相当好的温度均匀性。

4.控制系统先进:选配计算机集散控制系统、实现一键式操作,自动记录,随时调取随时查询,方便对产品质量经行控制监督,有纸或无纸温度记录仪、绝缘电阻测试仪等。


工作原理


热风烘干箱以蒸汽和电或煤炭为热媒,利用高效加热设备加热,大量热风在箱内进行了热风循环,经过不断新风补充从进风口进入箱体,然后不断从排湿口排出,这样增加了传热效果,使箱内物料水份逐渐减少,达到烘干效果。


型号 

HJ-HG1

HJ-HG2

HJ-HG3

HJ-HG4

HJ-HG5

HJ-HG6

HJ-HG7

工作室(高×宽×深)mm

800*800*1000

1200*1000*1500

1500*1200*1800

1800*2600*2000

2000*2000*5000

2500*2500*2000

3000*2500*3500

电源电压(V)

3-380

3-380

3-380

3-380

3-380

3-380

3-380

电源频率(HZ)

50

50

50

50

50

50

50

工作温度(℃)

室温--250

室温--250

室温--250

室温--250

室温—250

室温—250

室温—250

加热功率(kw)

8

16

24

35

50

75

90

温度均匀度(%)

±2.5

±2.5

±2.5

±2.5

±2.5

±2.5

±2.5

温度波动度(℃)

±1

±1

±1

±1

±1

±1

±1

换热效率(%)

80

80

80

80

80

80

80

平车承重(T)

2

3

3.5

4

5

5.5

7


2、高温石墨化炉



用于碳碳复合材料、石墨软毡、石墨硬毡的高温石墨化处理或其他产品的高温烧结处理。高温纯化炉是将石墨制品、石墨软毡、石墨硬毡或SiC粉体等通过高温焙烧和工艺气体定向流动,经过物理扩散、化学反应使杂质元素从基体中排出,形成灰分含量低(5ppmw)、金属含量降到PPB数量级,从而达到半导体晶体生长对石墨品质(或粉体原料)要求的工艺过程。


采用恒进专属超高温、大电流引电技术,能在2400℃条件下长时间稳定使用。


规格

温区尺寸(mm

最高温度(℃)

压升率(Pa/h

极限真空度(Pa

RVSG-1316H

φ1300*1600

2400

0.67

0.5-500Pa

RVSG-3126H

φ3100*2600

2400

0.67

0.5-500Pa

RVSG-202048

2000*2000*4800

2400

0.67

0.5-500Pa

RVSG-151520

1500*1500*2000

2400

0.67

0.5-500Pa


3、单室真空烧结炉




单室真空烧结炉的设备用途、特点:


该设备用于各种合金材料、器件、钕铁硼磁性材料、钐钴磁性材料、储氢合金、活性与难熔金属的真空烧结、时效等处理。该设备是在消化吸收国外设备优点的基础上,历经多次改进和完善,采用独特的内(外)部气流循环方式和较大的真空机组,具有冷却均匀、速度快、炉温均匀性好、大抽气量、温度均匀可控、高真空度和无渗漏等特点。冷却方式分为内循环(RVSX)和外循环(RVS)两种方式。


控制系统由PLC控制动作,智能温控仪控制温度,控制准确,自动化程度高,可实现全自动/手动无扰动切换及异常报警功能,操作简单可靠。


主要技术指标:


单室真空烧结炉








会务组

联系人:段经理

电话:13810445572

邮箱:duanwanwan@cnpowder.com




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