随着科学技术的飞速发展，半导体材料的革新速度也进一步加快。当前，碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表，在新能源汽车、光伏、储能等新兴领域正快速渗透，已成为全球半导体产业的前沿和制高点。同时，我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域，碳化硅半导体将在我国5G基站建设、特高压、城际高速铁路和城市轨道交通、新能源汽车充电桩、大数据中心等新基建领域发挥重要作用。
近年来，我国在SiC材料领域取得了显著进展，但与国际先进水平相比，在晶体生长技术、晶圆加工技术等方面仍存在一定差距。SiC晶体生长过程中面临着晶体缺陷控制、生长速率提升、晶体质量稳定性等难题；晶圆加工方面，则存在加工精度不足、良品率低、加工成本较高等挑战。在当前倡导节能减排的大趋势下，快速稳定地突破碳化硅单晶尺寸和质量等关键问题，才能够更好地占据未来碳化硅市场。
在此背景下，中国粉体网将于2025年8月21日在江苏·苏州举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会，大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。科毅科技股份有限公司作为参展单位邀请您共同出席。
我们的使命：
「工艺求精‧坚持创新」
除能提供专业的黄光设备(清洗、涂布、曝光(光刻)、显影、蚀刻机台、玻璃光罩设计…等新/中古设备)，科毅科技更可提供客户洁净且完善的黄光实验室，并经由专业团队的研发与实验，更可设计出符合客户需求的「客制化黄光机台设备」。
我们的愿景：
成为黄光制程设备及材料的专家。
我们的核心观念：互信互惠
科毅科技文化的建立与形成是具体化、逐步演绎的过程，且必须具备以互信互惠的四项核心价值观，分别为：「热情务本、创新卓越、专业服务、执行效率」的四项精神，这是科毅科技的所有人都必须具备的工作态度与价值观，以及做事的方式和原则。
我们的产品品质政策：
科毅科技为追求本公司之曝光机(光刻机)、涂布机、光罩、平行光源等光电设备之优良品质，不断研发制造技术(微影制程/技术)，并设有class 1000 等级无尘室，使所造之光电设备有更好的测试环境，以提供国内外厂商更精密良好的光电仪器。
此外更不断针对制程进行改善以提高效率与产能、降低生产成本，才能提供客户更即时、更具竞争力的产品与服务，进而达到与客户共创利润的双赢局面。
我们的竞争优势：
科毅科技的黄光设备产品可用于半导体主被动元件、光电显示器、背光模组(仁)上，也可用于其他目前亦相当受到重视的太阳能电池、LED等产品的制程。
由于我们的产品之精进与创新及小型化等优势，能使配合商品达到自动化、奈米科技化，并结合国内领先机构的顶尖技术，让科毅科技更「精益求精‧创新科技」。
会务组
联系人：段经理
电话：13810445572
邮箱：duanwanwan@cnpowder.com
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