中国粉体网讯 近日，国家知识产权局信息显示，万华化学集团电子材料有限公司取得一项名为“一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用”的专利，能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率。
来源：国家知识产权局
化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)可使晶片表面粗糙度达到亚纳米级别，是目前唯一可以实现晶片表面平坦化要求的关键技术。
在CMP过程中，抛光垫起到了储存抛光液、输送抛光液、排出废物、传递加工载荷、保证抛光过程平稳进行等作用，其成本占CMP总成本的三分之一左右。在CMP过程中，抛光垫浸泡在抛光液中会与工件和磨粒发生相对运动，这将引起抛光垫性能的下降，甚至造成抛光垫的废弃，因而制备质量高、性能稳定的抛光垫势在必行。
万华化学集团股份有限公司本次发明提供一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述制备方法包括以下步骤：a)将聚氨酯树脂、表面活性剂及黑色浆溶解在溶剂中配制成涂布浆料；b)将涂布浆料以一定厚度均匀涂布在支撑层上随即浸入凝固浴中固化成型；c)水洗烘干后的抛光层进行表面砂光、压制沟槽、贴合背胶层及离型层得到化学机械抛光垫。该发明方法制备的化学机械抛光垫具有均匀直立泡孔，相比传统类型的抛光垫，能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率，还可延长抛光垫的使用寿命。
万华化学是一家全球化运营的化工新材料公司，依托不断创新的核心技术、产业化装置及高效的运营模式，可提供极具竞争力的产品及解决方案。万华化学始终坚持以技术创新为第一核心竞争力，持续优化产业结构，业务涵盖聚氨酯、石化、精细化学品、新兴材料、未来产业五大产业集群。所服务的行业主要包括：生活家居、运动休闲、汽车交通、建筑工业、电子电气、个人护理和绿色能源等。
作为一家全球化运营的化工新材料公司，目前，万华化学已拥有烟台、蓬莱、宁波、四川、福建、珠海、宁夏、匈牙利、捷克九大生产基地及工厂，形成了强大的生产运营网络；此外，烟台、宁波、上海、北京、深圳、匈牙利、西班牙七大研发中心已完成布局，并在欧洲、美国、日本等十余个国家和地区设立子公司及办事处。
来源：万华化学官网
参考来源：
[1] 万华化学官网、国家知识产权局
[2] 曹威等，化学机械抛光垫的研究进展
[3] 霍金向等，化学机械抛光中摩擦润滑与化学行为研究进展
（中国粉体网编辑整理/山林）
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