中国粉体网讯 2024年12月16日消息，凯盛科技就CMP受限期间，公司量产的 CMP 抛光液是否可以替代进口产品问题表示，公司生产的半导体封装用高纯超细球形二氧化硅样品和 CMP 抛光液已通过国内外客户验证，形成小批量销售。
化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技术被誉为是当今时代能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平坦化的目前唯一技术，化学机械抛光的效果直接影响到芯片最终的质量和成品率。
CMP工艺 来源：何潮等，半导体材料CMP过程中磨料的研究进展
化学机械抛光通过抛光液中化学试剂的化学腐蚀和机械磨削的双重耦合作用，在原子水平上去除表面缺陷，获得全局平坦化表面，因此，抛光液对抛光效果起到至关重要的影响。
化学机械抛光液各组分 来源：王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
但全球CMP抛光液市场主要被美国和日本厂商垄断。其中卡博特(Cabot)、Versum Materials、日立(Hitach)、富士美(Fujimi)、陶氏(Dow)等美日龙头厂商占据全球CMP抛光液市场近80%市场份额。
凯盛科技集团有限公司是世界500强中国建材集团以玻璃新材料为核心的科技创新产业平台，凯盛科技股份是凯盛科技集团控股的科技型上市公司，作为其“3+1”战略布局中显示材料、应用材料的重要产业平台和核心骨干企业，在深圳、洛阳、池州、太湖等地拥有生产研发基地，是国家高新技术企业、国家技术创新示范企业。
公司成立于2000年9月30日，公司坚持创新驱动，将科技创新作为企业的核心竞争力，长期保持较高投入，与玻璃新技术国家重点实验室等开展紧密的产学研合作。公司承担建设了国家企业技术中心、省工程技术研究中心、省产业创新中心、省博士后科研工作站等国家和省部级创新平台20个，建立了包括省“115”产业创新团队、省高层次科技人才团队、省科技计划项目团队等高素质人才团队19支，承担省级以上重点项目19项。截至目前，公司累计授权专利545件，其中发明专利139件，美国发明专利1件，软件著作权18件。获得省级以上科技奖项12项。
来源：凯盛科技集团有限公司官网
参考来源：
[1] 燕禾等，化学机械抛光技术研究现状及发展趋势
[2] 何潮等，半导体材料CMP过程中磨料的研究进展
[3] 严嘉胜等，硅晶片化学机械抛光液的研究进展
[4] 王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
[5] 前瞻产业研究院、证券之星、凯盛科技集团有限公司官网
（中国粉体网编辑整理/山林）
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