中国制造!希科半导体利用国产衬底和设备生产出媲美国际大厂的SiC外延片


来源:希科半导体

[导读]  希科半导体利用国产衬底和国产外延设备可以生产出媲美国际大厂的SiC外延片。

中国粉体网讯  希科半导体科技(苏州)有限公司6英寸SiC外延片经过了行业权威企业欧陆埃文思材料科技(上海)有限公司和宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室的双重检测,检测结果显示希科半导体科技(苏州)有限公司利用国产衬底和国产外延设备可以生产出媲美国际大厂的SiC外延片。


图为欧陆埃文思材料科技(上海)有限公司检测报告截图


图为宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室检测报告截图


以碳化硅为代表的第三代半导体材料是继硅、砷化镓之后最具行业前景的半导体材料之一。过去十年来,由碳化硅功率器件推动的电力电子系统的小型化、高效化正在引领一场全世界电力电子系统和装置(新能源车PCU、车载充电器,充电桩、光伏和风电逆变器、储能逆变器、特种电源、高压和特高压输变电和无功补偿装置等)的深刻变革。


 


碳化硅半导体产业链主要包括碳化硅衬底、外延片、器件制造以及下游应用市场。碳化硅外延片,是指在碳化硅衬底上生长了一层有一定要求的、与衬底晶向相同的单晶薄膜(外延层)的碳化硅片。实际应用中,宽禁带半导体器件几乎都做在外延层上,碳化硅晶片本身只作为衬底,所以外延的质量对器件的性能影响巨大,处在一个产业的中间环节,对产业的发展起到非常关键的作用。


 


公开资料显示,希科半导体科技(苏州)有限公司成立于2021年8月,是一家致力于发展第三代半导体碳化硅(SiC)材料的高科技公司。作为苏州国家第三代半导体创新中心重点引进的合作项目,团队拥有多年的碳化硅外延晶片开发和量产制造经验,凭借业内最先进的外延工艺技术和最先进的测试表征设备,能够为客户提供满足行业对低缺陷率和均匀性要求的6吋n型和p型掺杂外延晶片材料。


参考来源:希科半导体


(中国粉体网编辑整理/山川)

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