20世纪50年代，我国开始研制稀土抛光粉产品，且有小量产。 目前我国稀土抛光粉的生产技术和设备，基本上是在1985年以后形成的。我国的抛光粉的产量居世界第一位，不仅能够满足国内的应用要求，且在国外市场上也占有较大份额。但是在产品的标准化和系列化方面，尤其是对一些具有较强专业性的抛光要求的特殊的工业抛件，与发达国家相比，尚有一定差距，至今，有关抛光粉的国家标准仍在拟订之中。
铈基稀土抛光粉是重要的稀土产品之一，我国是稀土大国，同时也蕴藏着丰富的铈资源，据测算，其工业储量约1800万吨（以CeO2计），这为我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的物质基础。铈基稀土抛光粉因其对制件具有优良的抛光特性，故被誉为“抛光粉之王”。工业上曾经用过铝、锌、铬、钛、锆、铁、锰等金属氧化物作为抛光粉，但它们的抛光性能均不如铈基稀土抛光粉好，所以也就逐渐地被铈基稀土抛光粉所取代，铈基稀土抛光粉和其它抛光粉相比，具有许多优点：具有良好的晶形，粒度小且均匀，抛光效率高，可提高3~4倍，使用量少且寿命长，抛光件可提高30%以上的合格率，光洁度高，易清洗，不污染环境且劳动条件好。因此，稀土抛光粉能够在工业上获得广泛的应用。
我国的稀土抛光粉行业有近50年的历史，我国在生产、应用、市场和技术方面已取得了很大的成就和发展，成为世界稀土抛光粉的生产与供应大国。目前我国的稀土抛光粉主要用于光学玻璃，显像管，显示器，平板玻璃，镜片等方面，并且已经能生产出三大类别（按照含铈CeO2的高低分成高、中、低三级）诸多牌号的产品。
