中国粉体网讯 5月28-30日，第二届中欧国际硅光技术研讨会在重庆成功召开。备受期待的联合微电子中心有限责任公司（CUMEC公司）180nm成套硅光工艺PDK（process design kit）发布会也于今（30）日成功举办。
这标志着CUMEC公司具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力，开始向全球提供硅光芯片流片服务和EPDA设计服务。
发布会上，CUMEC公司执行董事兼总经理韩建忠博士在现场致辞中表示，CUMEC公司将始终坚持开放合作的发展理念，稳步实现国际一流的高端特色工艺平台建设目标，与同行专家学者海内外朋友一道，共同为硅基光电子技术与产业应用的发展贡献智慧和力量。
近几年，硅光芯片被广为提及，是世界各大国抢先布局的重点，被认为是芯片领域“换道超车”的核心技术。
5G时代，数据传输需求越来越高，传统的电芯片在信号传输模式上遇到了带宽、功耗、延时等一系列瓶颈问题。将光引入芯片，可以提高传输性能实现带宽100倍以上的增长，同时功耗和尺寸还有大幅度的降低。
硅基光电子芯片技术，则是将光的极高带宽、超快速率和高抗干扰特性，以及微电子技术在大规模集成、低成本等方面的优势进行结合，形成一个完整的具有综合功能的新型大规模光电集成芯片。
这种芯片适用于5G、数据中心、无人驾驶、人工智能等领域。因此，在重庆的大数据智能化发展中，硅基光电子芯片极具想象空间。
欧洲硅光联盟主席、比利时根特大学教授、imec高级研究员Roel Baets从比利时发来线上致辞，他表示，硅基光电子技术作为一项新兴技术正在快速发展，产业化速度亦在不断加快，CUMEC公司发布的180nm成套硅光工艺PDK令人振奋，相比集成电路工业无比成熟的PDK，硅基光电子领域的PDK虽然已经出现了几个，但是还很单薄，还在发展的早期，CUMEC公司发布的PDK是硅光领域的一大进步。
（中国粉体网编辑整理/平安）
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