德国新帕泰克将参展上海IPB2010国际粉体展

德国新帕泰克将参展IPB 2010 第八届国际粉体工业/散装技术展览会暨会议

    时间：2010年9月27-29日
    地点：上海国际展览中心
    地址：上海市兴义路77号

    公司展位号1118，届时将携最新R系列干法激光粒度仪HELOS/RODOS（测试范围0.1-3500μm）、动态粒度粒形分析仪QICPIC（测试范围1-20000μm）、纳米激光粒度仪NANOPHOX（测试范围1-10000nm）、超声衰减粒度仪OPUS（0.01-3000μm），并有中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。

    德国新帕泰克专利的干法粒度仪HELOS/RODOS，以其“干样干测”、“瞬时分散，瞬时测量”的优势，广泛以用于粉体行业的粒度分析与测量，具有分散效果好、测试速度快、准确性与精度高等优点。

    动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上，提供粒形信息，为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。

   纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影响，测试浓度高，准确性好，同时提供稳定性分析，是分析纳米粉体的最佳选择。

　诚挚欢迎各界人士的莅临展位交流！

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