文章来源：David Wu（ASCENT FUNDS 总裁）
2025 年 3 月，彭博社曾报道美国纳米涂层企业 Forge Nano 正寻求新一轮融资，彼时其目标估值高达 9 亿美元，而该公司此前的估值仅为 3.36 亿美元。当时市场对此看法不一，部分观点认为这一估值目标过于激进，也有声音认可其技术对半导体和电池制造的变革性价值，但质疑其难以与应用材料、三星电子、ASML 等行业巨头抗衡。这家 2013 年从科罗拉多大学博尔德分校拆分而来的材料科学初创企业，核心布局除电池领域外，正逐步向半导体制造板块拓展。
时隔一年，市场对 Forge Nano 的认知已然改变。Ascent Funds 领投了该公司的这轮融资，Rock Creek Capital, LLC 担任联合领投方，其最新估值指标已远超独角兽企业标准。更关键的是，在市场围绕估值争论的这段时间里，Forge Nano 的工程师团队成功实现了一项曾被业界认为 “仅停留在理论层面” 的技术突破 —— 达成纵横比高达 1000:1 的高速原子层沉积（ALD）涂层，且该技术不仅在实验室中验证成功，在贴近实际生产线的条件下同样能够实现。
1 1000:1 的真正含义
如果你不是生活在无尘室里，“1000:1 宽高比”听起来就像是营销噱头。不妨换个角度想：想象一下，有人递给你一把油漆刷，让你在几秒钟内完美地涂满曼哈顿的每一座摩天大楼，里里外外都要涂。这就是芯片制造中 1000:1 宽高比带来的感受。Forge Nano 的“原子装甲”技术将这把油漆刷变成了一团精准的雾气，瞬间包裹住每一栋建筑——更快、更均匀地涂满整座城市，不留任何角落。
想象一下，你被要求在几秒钟内，用一把油漆刷完美地涂满曼哈顿的每一座摩天大楼的里外。这就是芯片制造中 1000:1 宽高比带来的感受。
多年来，芯片制造商一直使用一种名为原子层沉积 (ALD) 的工艺来“涂覆”芯片内部如同摩天大楼般细小的结构。问题在于，当这些结构变得非常深且窄时，涂覆速度会减慢，出现漏涂，甚至根本无法到达底部。这意味着更多的芯片缺陷、更多的晶圆报废，以及远超预期成本的人工智能硬件。Forge Nano 的 ALD 技术——他们称之为“原子装甲” ——改变了这一现状：它能够以高达 1000:1 的超高比例快速均匀地涂覆这些超深结构，而且不仅在实验室实验中如此，在与实际生产线类似的条件下也能实现。
对于晶圆厂来说，这意味着非常简单的经济效益：每片晶圆都能生产出更多优质芯片，废料浪费更少，而且投入到设备和洁净室的数亿美元也能更快地收回成本。
从资金角度来看，这绝非微不足道的尾数误差。晶圆厂加工的单枚晶圆，制程成本高达数万美元，对于一条先进制程产线而言，良率哪怕提升几个百分点，每年就能转化为数亿美元的价值。如果你的镀膜工序成为生产瓶颈 —— 导致设备不得不降速运行、前驱体过度消耗，还会因肉眼无法察觉的孔洞缺陷造成晶圆报废，那么你生产的每一颗人工智能芯片，实际上都在为此付出额外成本。
一台能高效实现 1000:1 沉积比例的原子层沉积设备，其价值远不止体现在学术会议的论文中：它能让单枚晶圆产出更多合格芯片，减少无效生产批次，还能让动辄数亿美元的资本支出更快收回成本。当下，晶圆厂正斥资数十亿美元扩充新产能，任何能将这些 “沉没成本” 设备转化为高产能、高良率生产设施的技术，都能直接转化为实实在在的利润。
2 台湾：从桑顿到时尚之都
Forge Nano 于 2025 年底在台湾开设了其首个海外办事处，并非作为远程销售点，而是为了融入全球最先进晶圆厂的生态系统。他们没有聘用初级业务拓展人员，而是聘请了像现任首席运营官 Wyman Fang 这样的人才。Wyman Fang 曾在领先的半导体设备制造商 Lam Research 工作十余年，之后认为位于科罗拉多州桑顿市的这家拥有 120 名员工的公司才是打造下一代工具的更佳选择。就在上周，该公司还宣布任命销售和市场营销资深人士 Craig Steinroeder 为首席商务官。
当 Forge Nano 带着 1000:1 的先进 ALD 技术数据和一份非常朴素的科罗拉多风格幻灯片走进台湾工业技术研究院（工研院——这家研究院曾助力台积电的诞生）时，高层领导的反应并非礼貌的好奇，而是：我们想和你们合作。对于一家规模不大的美国公司而言，在这样一个几乎见识过全球所有工具制造商的房间里，那一刻的“哇”远比任何估值数据都重要。
3 为什么韩国在这个故事中起步较早
如果从更宏观的角度来看，有一点显而易见：韩国产业多年来一直走在行业前沿。早在 Forge Nano还只是一家电池材料公司时，LG 电子就已涉足其中。随着 Forge Nano 的业务拓展至电池两用和半导体设备领域，韩华航空航天随后领投。最近，又有几家大型企业集团——其产品遍布你家客厅和附近的超大规模数据中心——悄然加入了 Forge Nano 的行列。
原因不难理解。韩国地处 Forge Nano 公司直接涉及的三大领域的交汇点：电动汽车和储能电池、人工智能所需的高带宽存储器以及国防相关的能源和材料。能够同时涂覆粉末和晶圆的原子层沉积（ALD）平台并非仅仅是又一项资本支出；它更是国家产业战略的关键杠杆。当韩国的战略眼光独到的决策者选择支持一家总部位于美国的模具制造商，而这家制造商又在美国政府的大力支持下扩大了韩国国内的生产规模时，你应该密切关注这一信号。
4人工智能热潮背后的乏味硬件
大家都喜欢谈论人工智能模型、GPU 和数据中心资本支出。很少有人愿意讨论让这一切可行的良率计算。然而，抛开炒作，半导体制造仍然会因为涂层在最小、最深的特征处失效而浪费掉相当一部分最先进的晶圆。
将 ALD 推至 1000:1，随着时间的推移，会发生以下三件事：
每片晶圆上可获得更多优质芯片，这直接带来更高的利润率和更经济实惠的人工智能产能。
实现逻辑和内存中更密集的 3D 堆叠的现实途径——这将使你的下一代手机运行流畅，并使你的语言模型的运行成本不那么高昂。
供应链中重要人物的悄然转变：突然间，“涂层步骤”不再是一个无关紧要的误差，而是一个战略瓶颈，终于有人疏通了它。
这正是投资 Forge Nano 的逻辑——与其说是将其视为“一家涂料初创公司”，不如说是将其视为美国新型战略设备制造商的一部分：如今规模虽小，但却恰好处于人工智能、储能和国家安全交汇的领域。
“有人说这有点牵强”
彭博社曾将 Forge Nano 描述为一家“寻求”9 亿美元估值的公司；如今，这个数字早已成为过去。真正的问题不在于它能否跻身独角兽行列，而在于市场最终将如何为这家美国战略制造资产定价。Forge Nano 刚刚突破了 1000:1 的 ALD 工艺瓶颈，并将其转化为人工智能、电动汽车和国防领域的杠杆点。
经过一年的时间积累，产能比达到 1000:1 的里程碑，并在台北和莫里斯维尔实地开展工作，现在看来，这更像是一个开局阶段，而不是一个高峰期。
Forge Nano 位于北卡罗来纳州莫里斯维尔的 3GW 电池工厂
但真正让人兴奋的不是这个标签，而是它所代表的模式。这才是 2026 年硬件真正进步的模样：
从一家专注于特定领域的材料公司起步。
赢得重要玩家的投资：通用汽车，液空，大众，LG Hanwha Group，Top Material & Sumitomo Corporation 将美国能源部 (DOE)的拨款和私人资本转化为不起眼但技术含量极高的成功。
某天早上醒来，你突然意识到，你在科罗拉多州一直关注的“涂层瓶颈”现在成了人工智能、电动汽车和国防规划的优势点。
对于晶圆厂、设备制造商、电池生产线及主权 / 战略基金而言，若仍将原子层沉积（ALD）视作简单的 “涂层工序”，那么 Forge Nano 实现的 1000:1 工艺突破，无疑是重新认知这一技术的重要节点。人工智能的未来篇章，不会由那些高调宣扬人工智能的人书写，而将由那些默默地率先扫清硬件瓶颈的人书写。
型号推荐Forge Nano 粉末原子层沉积系统
PANDORA 科研级多功能ALD系统
Pandora 多功能原子层沉积系统使用操作简单，处理量为毫克-百克级别，适合科研用粉料、平面、块体 ALD，可兼顾多种不同样品的需求，处理各种复杂样品并做到无死角的 ALD 包覆。
PROMETHEUS 工艺级流化床ALD系统
利用 Prometheus 流化床原子层沉积系统可实现克级到公斤级粉末材料的界面涂层生长，科研级工艺开发用粉料、轻质块体ALD。适合兼顾科学研究以及成果转化的工艺开发需求，实现与企业小试要求的无缝衔接。
PROMETHEUS XL 10(20)L 小试级流化床ALD 系统
Prometheus XL 流化床原子层沉积系统单次粉末处理量达 1-20L，依粉末密度可达 10kg 以上，小试级粉料 ALD。全球首创大容量流化床反应器，彻底解决粉末团聚难题，实现超均匀包覆。
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复纳科技成立于 2012 年，专注引进欧美先进、稳定的科学分析仪器与制造设备，助力中国科研创新与工业升级。公司已服务 2,500+ 家中国用户，并与 10 余家国际知名制造商建立了长期稳定的合作关系，共同为中国用户提供高品质产品与专业服务。复纳原子制造作为公司的重要业务板块，拥有丰富的产品和解决方案：
Forge Nano 原子层沉积包覆方案：Forge Nano 是一家全球领先的 ALD 涂层公司，提供原子层（ALD）包覆方案，是全球唯一有粉末 PALD 工业级量产能力及案例的厂商。
VSParticle 纳米颗粒制备&印刷沉积系统：VSParticle 致力于纳米颗粒生产与沉积，加速下一代产品材料的开发。
Tera Print 桌面式无掩膜光刻/打印方案：Tera Print 是第一家释放光束笔光刻公司，致力于为纳米制造领域提供全新而独特的产品。
