中国粉体网讯 2025年4月16日，由中国粉体网主办的“2025第二届高端研磨抛光材料技术大会”在河南郑州成功举办！大会期间，中国粉体网邀请到多位业内专家学者做客“对话”栏目，就高端研磨抛光材料与技术、研磨抛光装备及应用、行业未来发展等方面进行了访谈交流。本期，我们邀请到的是广东惠尔特纳米科技有限公司钟荣峰经理。
中国粉体网：钟经理您好，请从主营产品、企业规模以及研发实力三个方面介绍一下广东惠尔特纳米科技有限公司。
钟经理：广东惠尔特纳米科技有限公司主要致力于纳米二氧化硅相关产品的研发与生产，主营产品包括多种硅溶胶及延伸产品，广泛应用于半导体抛光、铸造、涂料、陶瓷抛光、催化剂等多个领域。这些纳米二氧化硅产品具有粒径均匀、分散性好等特点，能为下游产业提供优质的原料支持。
公司拥有7个现代化的生产基地，占地面积达30万平方米，产能达到每年20万吨，配备了先进的生产设备与检测仪器。目前企业员工总数约300人，其中涵盖了生产、研发、销售等各个专业领域的人才，形成了较为完善的企业运营体系。
公司高度重视研发创新，组建了一支由多位行业资深专家领衔的研发团队，团队成员有多名博士、硕士学历人员。公司与多所知名高校和科研机构建立了长期的产学研合作关系，不断投入研发资金，近年来取得了多项专利技术与科研成果，在纳米材料技术领域保持着较强的竞争力。
中国粉体网：请问相较于二氧化铈、氧化铝等传统CMP磨料，纳米二氧化硅在半导体抛光中的核心优势体现在哪些方面？
钟经理：我认为纳米氧化硅在半导体抛光中的优势主要体现在以下几方面。
一是抛光精度更高，纳米二氧化硅的粒径可以精准控制在极小的范围内，能够实现对半导体表面更为精细的抛光处理，有效降低表面粗糙度，满足半导体制造中日益严格的高精度要求；二是化学稳定性好，相较于部分传统CMP磨料，纳米二氧化硅在抛光过程中的化学性质更加稳定，不易与半导体材料发生不必要的化学反应，从而保证了半导体器件的性能和质量。
第三方面，纳米二氧化硅分散性优异，纳米二氧化硅在抛光液中具有较好的分散性，能够均匀地分布在抛光体系中，不易团聚。这有助于提高抛光的均匀性，减少表面划痕和缺陷，获得更光滑的抛光表面；第四是它具有低磨损性，纳米二氧化硅硬度相对较低，在抛光过程中对被抛光材料的磨损较小，特别适用于一些软质材料或对表面损伤敏感的材料的抛光，能够在实现抛光效果的同时，最大限度地减少对材料表面结构和性能的影响。
五是环保性好，纳米二氧化硅通常具有较好的生物相容性和环境友好性，在生产和使用过程中对环境的污染较小，符合现代工业对环保的要求；最后就是成本优势，随着纳米二氧化硅生产技术的不断成熟，其生产成本逐渐降低。在保证抛光效果的前提下，使用纳米二氧化硅可以有效降低半导体抛光的成本，提升企业的经济效益。
中国粉体网：钟经理，请问公司在纳米二氧化硅的制备工艺中（如异形胶体、高纯度胶体等）有哪些自主核心技术？
钟经理：我们公司可以提供特殊的反应条件控制（如温度、压强、反应时间等精准控制技术）、独特的原料处理方法（例如对初始原料进行特殊的预处理以提高最终产品纯度等）、创新的合成方法（像新的合成工艺路径，在粒径增长过程中加以干扰制备异型胶体）、先进的分离与提纯技术（用于得到高纯度胶体等产品）等方面。我们一直致力于相关技术研发创新，以保障产品在市场上的竞争力。
中国粉体网：您觉得当前国产纳米二氧化硅磨料在高端半导体领域面临哪些技术瓶颈？惠尔特通过哪些研发策略实现进口替代？
钟经理：虽然国产纳米二氧化硅磨料在颗粒尺寸和形貌控制方面取得了一定进展，但与国际先进水平相比，仍存在差距，需要进一步提高颗粒尺寸分布的窄度和集中度，以实现更精确的抛光效果。其次，高纯度的纳米二氧化硅是半导体制造中的重要材料，国产产品在纯度方面仍需提升，特别是金属杂质的含量需要进一步降低。目前，国产纳米二氧化硅的金属杂质含量≤400 ppb，而国际同类产品的标准通常更高。
再者，国产纳米二氧化硅磨料的工艺稳定性和批量生产的一致性仍需提高，需要建立更加稳定的合成工艺，以确保每一批次的产品性能一致，满足高端半导体制造的高标准要求。国产纳米二氧化硅磨料在国际市场上仍面临技术封锁和市场竞争，特别是在高端半导体领域，国外企业凭借技术优势占据了主要市场份额，国产产品需要突破这些技术壁垒，才能在高端市场站稳脚跟。
那么，对于产品进口替代方面，公司后期可能加大资金投入，建立先进的研发实验室，购置高端研发设备，吸引优秀科研人才，组建专业研发团队。针对前面提到的国产技术瓶颈，如聚焦于提高磨料纯度的提纯技术研发，优化粒径控制技术以精准控制粒径分布，研究更好的分散工艺解决分散性问题等。与高校、科研机构合作，产学研结合，借助外部科研力量加速技术突破；也可能与半导体生产企业合作，深入了解实际生产需求，针对性研发。
中国粉体网：钟经理，近几年，公司在新产品的开发方面有什么进展？
钟经理：公司致力于硅溶胶及其延伸产品的开发，包括不同稳定剂（钠、钾、氨型硅溶胶），不同粒径规格的产品。近年来，公司不断增加研发投入，引进高端技术人才，先进科研检测设备以及同多所高校、科研单位进行合作，在新产品、新技术上有着较大的进展。
在高纯硅溶胶方面，通过原材料的管控，预处理以及分离提纯技术，显著降低杂质含量，尤其金属离子的含量，虽然和进口产品还有一定的差距，但相信我们通过不断的努力一定会缩小这个差距。另外，不断改进生产工艺，精确控制硅溶胶粒径分布，制备单分散体系的硅溶胶，通过自动化半自动化的工艺控制，保证产品批次间的一致性。
其中，公司开发的SKP系列硅溶胶在涂料中显著提升耐磨性和抗污性，用于特种纸涂层，可以增加纸张表面摩擦力，用于铸造行业能显著提高壳模的表面光洁度，减少铸件表面缺陷，投入市场后得到客户的广泛认可。
中国粉体网：好的，感谢钟经理接受我们的采访。
