中国粉体网讯 11月29日，鼎龙股份在回复投资者问题中表示，公司CMP抛光垫业务2024年第三季度实现产品销售收入2.25亿元，环比增长38%，同比增长90%，再创历史单季收入新高。
化学机械抛光（CMP）是一种工件表面全局平坦化工艺技术，被应用于微纳米级材料表面的抛光，其基本原理是工件材料表面与抛光液中氧化剂发生化学反应，生成一层软质层，在外加压力下，磨粒与工件材料表面发生机械磨削作用去除软质层，然后工件表面再次发生化学反应，通过化学作用和机械作用交替进行，直至工件表面抛光完成。
CMP制程原理图
在化学机械抛光过程中，抛光垫的作用主要有：存储抛光液及输送抛光液至抛光区域，使抛光持续均匀的进行；传递材料，去除所需的机械载荷；将抛光过程中产生的副产物（氧化产物、抛光碎屑等）带出抛光区域；形成一定厚度的抛光液层，提供抛光过程中化学反应和机械去除发生的场所。
抛光垫 来源：鼎龙股份
CMP抛光垫的合理选择对于控制和优化CMP过程有重要作用，抛光垫产品横跨高分子化学、高分子物理、有机合成、摩擦学、精密加工等多学科领域，技术复杂度极高。鼎龙股份具备抛光垫产品全制程、全流程的研发生产能力，是全球第一家做到抛光垫型号需求全覆盖的公司。
鼎龙股份 来源：鼎龙股份
湖北鼎龙控股股份有限公司创立于2000年，2010年创业板上市，是一家从事集成电路设计、半导体材料及打印复印通用耗材研发、生产及服务的国家高新技术企业、国家技术创新示范企业、国家知识产权示范企业、工信部制造业单项冠军示范企业。总部位于武汉经济技术开发区，产研基地遍布湖北、广西、长三角、珠三角等地区。具备多年与全球500强企业合作能力，为全球高技术跨国公司做供应链配套和服务。
鼎龙股份产业布局 来源：鼎龙股份
公司就CMP抛光垫业务，2024年前三季度累计实现产品销售收入5.23亿元，同比增长95%；其中，今年第三季度实现产品销售收入2.25亿元，环比增长38%，同比增长90%，再创历史单季收入新高。公司着力进行CMP抛光垫业务的市场开拓工作，产品在国内市场的渗透程度随订单增长稳步加深。
参考来源：
[1] 中国粉体网
[2] 鼎龙股份官网
[3] 王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
[4] 燕禾等，化学机械抛光技术研究现状及发展趋势
[5] 同花顺iNews：鼎龙股份：公司CMP抛光垫业务今年前三季度累计实现产品销售收入5.23亿元，同比增长95%
（中国粉体网编辑整理/山林）
注：图片非商业用途，存在侵权告知删除！
