中国粉体网讯 据海外网报道，7月1日，日本政府突然出手制裁措施，宣布限制向韩国出口重要高技术材料，其中包括用于制造智能手机与电视机中OLED显示器部件使用的“氟聚酰亚胺”、半导体制造过程中必须使用的“光刻胶”和“高纯度氟化氢”等半导体的三种材料。
据中国粉体网小编的了解，日本的这三种材料，在世界市场上的占有率达到70%至90%，占有绝对支配性的地位，媒体预测，韩国三星电子、SK海力士等企业将因此立刻受到冲击。韩企随即表示，“材料、零部件领域对日本的依存度很高，没有合适的应对方案”，感到非常为难。由于在半导体生产必需的光敏抗蚀剂和腐蚀气体领域，韩国对日本依赖度高达90%，一旦限制措施长期化，在半导体占韩国出口20%以上的情况下，韩国的出口产业也将遭受损失。
另据Gartner发布的《2018全球半导体市场营收报告》，按照全年营收计算，三星电子和SK海力士这两家韩国半导体公司在前五名中分别位列第一和第三，占据全球市场份额23.5％。韩国开发研究院（KDI）发表的研究报告称，去年韩国经济增长率为2.7%，如果扣除半导体增长因素，则韩国经济增长率为1.4%，是2009年（0.8%）全球金融危机以来的最低增长值。报告称，近两三年半导体产业的景气，是拉动韩国经济增长的主要动力。
材料简介：
含氟聚酰亚胺
含氟聚酰亚胺由于氟原子独特的物理化学性质，如较小的原子半径、较高的电负性以及较低的摩尔极化率等性质，使单体分子具有较好的热力学稳定性、较好的溶解性能，优良的介电性能和光学性能以及疏水性等，使材料在微电子、航空航天、光波通讯等高科技领域得到广泛应用。
光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂，是涂在硅片或金属等基板表面上的感光性高分子耐蚀涂层材料。通过图像掩膜曝光，利用曝光前后溶解度差，经显影后在基板上可形成微细图象，然后经化学或等离子刻蚀，在基板上可刻出设计的图像，这是制造超大规模集成电路和照相制版的关键材料。作为一种好的光刻胶，必须满足①高分辨率；②高灵敏度；③高反差；④耐干法或湿法腐蚀。这些条件中，分辨率最为重要。分辨率越高，制出的超大规模集成电路的集成度越大。
氟化氢
化学式HF。无色气体，有强烈腐蚀性。在19.54℃以下成无色液体。由浓硫酸和氟化钙加热制取。易溶于水，水溶液叫“氢氟酸”。市售的氢氟酸含HF约40%，其中氟化氢常以两分子缔合状态(H2F2)存在。氟化氢气体在常温下呈两分子或三分子缔合状态，在90℃以上，它的密度才相当于单分子HF。潮湿的氟化氢同氢氟酸一样，对于玻璃有腐蚀作用，常用作刻蚀玻璃之用。氢氟酸是氢卤酸中酸性最弱的一个，但腐蚀性很强。是氟化反应的常用试剂。也是含氟树脂的原料，及处理半导体材料硅、锗等的清洗剂。
资料来源：
人民日报海外网、环球网、中国经济网。
闫欠等.含氟聚酰亚胺的制备及性能研究
路甬祥主编.现代科学技术大众百科.科学卷
辞海.理科分册
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