超高强度和高导电性,这两种性能在工业应用的金属材料中往往是鱼和熊掌不可兼得,也是一项长期以来有待解决的重大科学难题。我国科学家经过深入研究,利用纳米技术的新途径成功实现金属材料的超高强度和高导电性,突破了这一难题。
众所周知,工业中应用的导电材料绝大多数是各种金属和合金材料。强度和导电性是导体金属材料的两个至关重要性能,在工业应用中往往需要导体材料同时具有高强度和高导电性。
然而,在常规金属材料中这两种性能往往相互抵触,不可兼得。
为了解决这一难题,中科院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,经过长期实验研究后,采用脉冲电解沉积技术,制备出具有高密度纳米尺寸生长孪晶的纯铜薄膜,通过工艺过程研究调整样品的晶粒尺寸、孪晶厚度及其分布、织构状态等,获得了具有超高强度和高导电性的纯铜样品。其拉伸强度是普通纯铜的10倍以上,达到高强度钢的强度水平,而室温电导率与无氧高导铜相当。
众所周知,工业中应用的导电材料绝大多数是各种金属和合金材料。强度和导电性是导体金属材料的两个至关重要性能,在工业应用中往往需要导体材料同时具有高强度和高导电性。
然而,在常规金属材料中这两种性能往往相互抵触,不可兼得。
为了解决这一难题,中科院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,经过长期实验研究后,采用脉冲电解沉积技术,制备出具有高密度纳米尺寸生长孪晶的纯铜薄膜,通过工艺过程研究调整样品的晶粒尺寸、孪晶厚度及其分布、织构状态等,获得了具有超高强度和高导电性的纯铜样品。其拉伸强度是普通纯铜的10倍以上,达到高强度钢的强度水平,而室温电导率与无氧高导铜相当。