中国粉体网讯 近日，奉贤区举行2026年第一季度重大项目开工仪式，滕煦公司高端电子化学品（上海铄晶高纯二氧化硅溶胶）项目作为重点项目同步启动开工。区委书记刘平宣布开工，区委副书记、区长王益群致辞，区人大常委会主任张培荣、区政协主席陈勇章、区委副书记唐晓腾等共同为项目培土奠基，见证奉贤新一年产业项目建设的启动。
上海滕煦生物医疗技术有限公司投资的超高纯二氧化硅溶胶项目是此次开工的重点产业项目之一，计划总投资10亿元。该项目聚焦集成电路产业链上游关键材料领域，投产后将填补奉贤在超高纯电子级材料生产领域的空白，进一步完善区域通用新材料产业的产品矩阵，助力提升奉贤在高端电子材料赛道的核心竞争力。
在化学机械抛光中，硅溶胶是“明星单品”。硅溶胶作为化学机械抛光浆料的核心研磨成分，用于晶圆表面的纳米级平坦化处理，通过精准的颗粒尺寸控制实现晶圆表面杂质去除和精度提升，保障芯片制造的工艺稳定性。
一般来说，抛光液是由磨料、氧化剂、pH调节剂、分散剂和去离子水组成。磨料是抛光液的主要成分，磨料的种类、物理化学性质、粒径尺寸、均匀性及稳定性直接影响着晶圆的表面质量和材料去除率。
抛光液中常用的磨料为二氧化硅、氧化铝和二氧化铈。其中，二氧化硅是应用最广泛的抛光磨料，硬度适中、形状规则，抛光后可获得较好的表面质量，SiO2磨料在溶液中易形成稳定分散的无定型硅溶胶，其表面含有大量水和羟基。硅溶胶由胶核、吸附层和扩散层构成，其中吸附层和扩散层构成硅溶胶特殊的双电层结构，这是其悬浮稳定性的保证。
硅溶胶抛光液在抛光应用中的历史可以追溯到1965年美国Monsanto公司WALSH和HERZOG的专利，日本Fujimi公司在市场推广中发挥了重要的作用。硅溶胶抛光液具有很多优良的物理化学性能，如大的比表面积、高吸附性能、耐热性、绝缘性及分散性，已广泛应用于半导体、蓝宝石、合金、陶瓷等衬底的抛光中。
参考来源：中国粉体网、今日半导体
（中国粉体网编辑整理/山林）
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