部分产品介绍
碳化硅涂层CVD炉
应用于半导体装备的石墨或陶瓷碳化硅涂层生产，具有工艺气体控制精度高、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
碳化钽涂层CVD炉
半导体装备的石墨或陶瓷碳化钽涂层生产，具有送粉均匀、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
应用于陶瓷粉体材料的烧结生产，具有温度气氛均匀、产能大、能耗低、自动化程度高等特点。
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2025-04-23
来源：中国粉体网
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碳化硅涂层CVD炉
应用于半导体装备的石墨或陶瓷碳化硅涂层生产，具有工艺气体控制精度高、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
碳化钽涂层CVD炉
半导体装备的石墨或陶瓷碳化钽涂层生产，具有送粉均匀、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
应用于陶瓷粉体材料的烧结生产，具有温度气氛均匀、产能大、能耗低、自动化程度高等特点。
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