中国粉体网讯 近期，浙江奥博石英科技有限公司公布一项发明专利，专利名字为：一种半导体用高纯石英制作工艺。
该工艺选择1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐离子液体，可以实现石英的低温熔融，在较低的温度下将二氧化硅粉末转化为离子液体溶液，然后通过调控温度和压力，使溶液冷却凝固，得到高纯石英。节省能量的消耗，保护环境避免污染，提高了石英的纯度，提升其性能和稳定性，防止石英材料的形状和尺寸发生变化，从原来的几十个小时的生产时间降低至五个小时左右，大幅提升了高纯石英的生产效率。
具体来说，这种制作工艺包括以下步骤：
S1、原料准备：选用高纯度的二氧化硅粉末作为原料，要求纯度达到99.9%以上；
S2、进料和分级：采用气流分级法，将二氧化硅粉末按照粒径进行分级，将原料二氧化硅粉末通过进料系统送入气流分级器，气流速度1030米/秒，在气流的作用下，颗粒会按照粒径的大小进行分级。较大的颗粒会在上部分级出口排出，较小的颗粒会在下部分级出口排出；
S3、收集和再处理：分级出来的较大颗粒和较小颗粒需要分别进行收集，较大颗粒可以通过再磨细的方法进行再处理，以获得更细的粉末，而较小颗粒可以通过进一步的过滤，去除存在的杂质；
S4、重复分级：可以将较小颗粒再次进行气流分级，以去除更小的颗粒和杂质；
S5、离子混合物制作：在通过气流分级的方法获得更纯净的二氧化硅粉末中加入离子液体1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，形成二氧化硅离子液体混合物；
S6、混合搅拌：使用搅拌设备将二氧化硅粉末和离子液体充分混合；
S7、加热：采用高压熔融炉将二氧化硅离子液体混合物加热至400-600℃，压力参数为200-250兆帕，使离子液体和二氧化硅粉末发生反应，实现二氧化硅低温熔化；
S8、冷却：将熔融二氧化硅冷却到-10℃至-20℃ ，冷却过程中冷却速率为50 -80℃/min，形成固态的高纯石英坯体；
S9、精加工：高纯石英坯体进行精加工，包括切割、研磨、抛光等以获得所需的形状、尺寸和表面质量。
S10、清洗和检测：对精加工后的高纯石英制品进行清洗，以去除表面污染物，同时进行质量检测，包括检测杂质含量光学性能、机械性能。
参考来源：国家知识产权局、浙江奥博石英科技有限公司官网
（中国粉体网编辑整理/星耀）
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