中国粉体网讯 在各类人造金刚石技术中，微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)单晶金刚石生长技术由于其微波能量无污染、气体原料纯净等优势而在众多单晶金刚石制备方法中脱颖而出，成为制备大尺寸、高品质单晶金刚石最有发展前景的技术之一。
(图片来源：晶盛机电公众号)
据晶盛机电消息，近日，晶盛机电晶体实验室经过半年多的工艺测试，全自动MPCVD法生长金刚石设备（型号XJL200A）成功生长出高品质宝石级的金刚石晶体。此次XJL200A金刚石生长炉成功解决了传统的MPCVD培育钻石生长技术的行业痛点：对多晶及生长裂纹等缺陷的判断、对晶体温度和生长厚度等关键生长参数的控制都依赖人工判断，克服了目前人工培育钻石过程中质量控制和规模化生产的瓶颈。
(图片来源：晶盛机电公众号)
该设备经过长晶测试表明，能一次可以实现20颗以上4-5克拉毛坯钻石的生产能力，设备稳定性好，综合生长良率高，为大规模的生产提供了自动化操作的基础。项目负责人表示，目前已经完成了设备定型和批量工艺开发，设备即将投放市场，能为客户提供一站式解决方案。
随着半导体行业的不断发展，越来越多的半导体材料被应用于电子器件中。普通半导体材料受其性能约束，在高温条件下的应用受到限制。而金刚石半导体器件具有高载流子迁移率、高热导率和低介电常数等优异的电学性质，能够在高频、大功率和高温高压等十分恶劣的环境中运行。金刚石通过掺杂可呈现ｎ型导电和ｐ型导电，性能远超GaAs，GaN和SiC等材料，是目前最有希望的宽禁带高温半导体材料。此外，由于金刚石带隙很宽，在半导体领域中，既能作为有源器件材料（如场效应管和功率开关），也能作为无源器件材料（如肖特基二极管等）。随着金刚石的电学和热学性能的逐步开发，金刚石会使超大规模集成电路和超高集成电路的发展进入一个新纪元。
参考来源：
[1] 晶盛机电公众号
[2] 陈亚男等.金刚石半导体材料和器件的研究现状
（中国粉体网编辑整理/山川）
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