精微物理吸附仪亮相第四届长余辉与光激励发光国际研讨会


来源:北京精微高博科学技术有限公司

[导读]  第四届长余辉与光激励发光国际研讨会(2018)于2018年4月4日-8日在北京航空航天大学举行,北京精微高博科学技术有限公司携BET物理吸附仪亮相。

第四届长余辉与光激励发光国际研讨会(2018)201844-8日在北京航空航天大学举行,北京精微高博科学技术有限公司携BET物理吸附仪亮相。

 

大会现场

JW-BK200C是一款研究级超高性能双站比表面及微孔孔隙度分析仪,是JW-BK200系列中的一款畅销产品,测试结果准确性、精确性、稳定性完全达到国际先进水平。非常适合活性炭、活性氧化铝、分子筛、沸石、MOF材料等超微孔纳米粉体材料的研究。精微高博产品还包括JW-BK100系列、JW-BK300系列、JW-BK400系列等不同型号比表面及孔径分析仪。

 

最近几年长余辉与光激励发光材料发展迅速,并广泛应用于各个领域如照明、显示、安全、防伪、传感、生物成像、医学、能源等。本会议的主要目的是报道和研讨发光材料最新的实验和理论进展,展望未来的发展方向。另外,本次会议将促进和加强研究人员之间及学术界与企业界的合作。对参加会议的学生也能起到培养作用。

 

本次会议的议题:

* 新型发光材料及制备方法

* 光谱表征方法例如光致发光谱、热释发光谱等。

* 结构、缺陷和性能表征方法

* 能量传递过程

* 晶体结构、电子结构、荷电/捕获/发光等的计算机模拟

* 纳米发光材料

* 固态照明、显示和能量转换中的应用

* 生物成像、细胞标记、抗癌、药物输运/释放等应用

* 传感、安全、隐身、辐射探测等方面的应用

 

关于精微高博:

北京精微高博科学技术有限公司被誉为“中国氮吸附仪的开拓者”,在国内率先研发成功动态全自动比表面仪、BET比表面仪、阶梯法动态比表面仪、単气路常压孔径分析仪、静态容量法介孔分析仪、静态四站比表面测定仪、高性能静态微孔分析仪、气体法真密度仪、高压吸附仪等。随着JWGB(精微高博)产品在全球市场知名度的提升,我们期待精微高博国际市场也将越做越大。了解更多,请登录www.jwgb.net或致电400-600-5039

 

欲了解更多,点击进入北京精微高博仪器有限公司>>
推荐11
相关新闻:
网友评论:
0条评论/0人参与 网友评论

版权与免责声明:

① 凡本网注明"来源:中国粉体网"的所有作品,版权均属于中国粉体网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:中国粉体网"。违者本网将追究相关法律责任。

② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。

③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

粉体大数据研究
  • 即时排行
  • 周排行
  • 月度排行
图片新闻