氮化镓迎来爆发?详解氮化镓市场的机遇与挑战


来源:中国粉体网   初末

[导读]  氮化镓(GaN)被誉为继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料,具有带隙宽、原子键强、导热率高、化学性能稳定、抗辐照能力强、结构类似纤锌矿、硬度很高等特点,在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用等方面有着广阔的应用前景。

中国粉体网讯  氮化镓(GaN)被誉为继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料,具有带隙宽、原子键强、导热率高、化学性能稳定、抗辐照能力强、结构类似纤锌矿、硬度很高等特点,在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用等方面有着广阔的应用前景。




2020年2月,小米特别推出了小米10系列手机,其中,小米65W氮化镓充电器的亮相使氮化镓再次成为人们关注的焦点,那么氮化镓材料有哪些无可比拟的优越性?它又能否成为行业的下一个热点呢?


氮化镓材料的优点


典型半导体材料特性参数对比


由典型半导体材料特性参数对比可以看出,GaN和SiC的材料特性主要有以下优点:


(1)临界击穿电场比Si高十倍,较大地提高了这两款半导体功率器件电流密度和耐压容量,同时也较大地降低了导通损耗;

(2)禁带宽度大约是Si的三倍,大大降低了这两款半导体器件的泄露电流,并使这两款半导体器件均有抗辐射特性;此外由于碳化硅材料的耐高温特性,在高温应用场合是具有优势的,理论上工作温度可以达到600℃;

(3)热导率是Si的三倍,有着优异的散热性能,可以大大地提高SiC的集成度、功率密度。

(4)电子饱和漂移速度是Si的两倍,可以让这两款半导体器件在更高的频率下工作。


因此GaN、SiC这两款半导体材料有着Si材料无法企及的优势,所以用这两款半导体材料制造的芯片可以承受更高的电压,输出更高能量密度,更高的工作环境温度。另外,氮化镓GaN器件有着更高的输出阻抗,可以使得阻抗匹配和功率组合更轻松,因此可以覆盖更宽的频率范围,大大地提高射频功率放大器的适用性。


氮化镓材料的应用前景


在军事领域的应用


当前军事与航天领域是氮化镓技术最大的市场。据统计,军事和航天领域占据了GaN器件总市场的40%,最大的应用市场是雷达和电子战系统。2016年3月,爱国者导弹防御系统美国雷神公司宣布采用了最新的基于GaN技术的相控阵天线系统。之前的爱国者导弹防御系统的雷达是采用的被动电子扫描阵列系统,现在的雷达系统改为了基于GaN技术的主动电子扫描阵列,基于GaN技术的主动电子扫描阵列将提供给爱国者导弹防御系统360度无死角的雷达搜索制导能力。包括现在的机载火控雷达、弹载导引头、舰载预警防空雷达系统等等,越来越多的用到了基于GaN技术的相阵防空天线。现在这些GaN技术已经慢慢地正从军用转为民用。例如,汽车驾驶无人系统、60GHz频段的Wi-Fi技术、无线通信基站,还有就是5G基站。


在5G基站等射频领域的应用


射频氮化镓技术是5G的绝配,基站功放使用氮化镓。氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)是射频应用中常用的三五价半导体材料。与砷化镓和磷化铟等高频工艺相比,氮化镓器件输出的功率更大;与LDCMOS和碳化硅(SiC)等功率工艺相比,氮化镓的频率特性更好。氮化镓器件的瞬时带宽更高,基站应用需要更高的峰值功率,这些因素都促成了基站接受氮化镓器件。


基站建设将是氮化镓市场成长的主要驱动力之一。Yoledevelopment数据显示,2018年,基站端氮化镓射频器件市场规模不足2亿美元,预计到2023年,基站端氮化镓市场规模将超5亿美元。氮化镓射频器件市场整体将保持23%的复合增速,2023年市场规模有望达13亿美元。


在电力电子方面的应用


氮化镓技术有望大幅改进电源管理、发电和功率输出等应用。GaN在未来几年将在许多应用中取代硅,其中,快充是第一个可以大规模生产的应用。GaN器件在高频、高转换效率、低损耗、耐高温上具有极大的优势,随着5G手机耗电量增加,大功率快充将成为标配,GaN快充技术可以很好地解决大电池带来的充电时长问题。


Yoledevelopment数据显示,2018年GaN功率电子器件国内市场规模约为1.2亿元,尚处于应用产品发展初期,但未来市场空间有望持续拓展,在市场乐观预期下2023年GaN功率电子市场规模有望达到4.24亿美元。


我国氮化镓发展面临的问题


氮化镓在性能、效率、能耗、尺寸等多方面较市场主流的硅功率器件均有显著数量级的提升,但其发展也面临着许多问题。


原材料短缺。氮化镓是自然界没有的物质,完全要靠人工合成。氮化镓没有液态,因此不能使用单晶硅生产工艺的直拉法拉出单晶,纯靠气体反应合成。由于反应时间长,速度慢,反应副产物多,设备要求苛刻,技术异常复杂,产能极低,导致氮化镓单晶材料极其难得,因此2英寸售价便高达2万多。


另外,目前我国对SiC晶圆的制备尚为空缺,大多数设备靠国外进口。而主流氮化镓器件公司都采用碳化硅衬底,因为基于碳化硅衬底的氮化镓器件比硅衬底氮化镓器件性能更好,良率更高,更能体现氮化镓材料优势,但碳化硅衬底成本更高。


原始创新能力低。国内开展SiC、GaN材料和器件方面的研究工作比较晚,与国外相比水平较低,且氮化镓是重要国防军工产品的关键技术,国外对我国技术封锁,目前我国氮化镓核心材料、器件原始创新能力仍相对薄弱。


氮化镓封装成本极高。氮化镓主要用金属陶瓷封装,封装成本占到整个器件成本的三分之一到一半。尽管业界已经在尝试纯铜、塑封、空腔塑封等形式来替代金属陶瓷封装,但由于金属陶瓷封装在性能、散热与可靠性上的优势,仍然是氮化镓器件的首选封装。


综上,氮化镓虽然发展潜力巨大,在5G通信、电源等市场都有着广阔的前景,但它仍面临这许多挑战,需要国内产学研用等相关方面要勇于挑战,创新合作模式,协同攻关,建立并发展好国内氮化镓产业链,共同促进氮化镓材料的发展。


参考资料:

周国强、李维庆等.射频氮化镓GaN技术及其应用

盛璟、蔡茂.氮化镓GaN的特性及其应用现状

李晓明.5G时代新技术需要关注氮化镓

数码探路人、中国产业信息网

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