SK海力士在华芯片厂恐遭美限制


来源:环球时报

[导读]  美国遏制中国半导体产业崛起的行为正愈发波及韩国半导体企业。韩国《每日经济》18日的报道称,有分析认为,在中国设有生产基地的三星电子和SK海力士,有可能面临无法升级工艺升级关键设备的风险。

中国粉体网讯  美国遏制中国半导体产业崛起的行为正愈发波及韩国半导体企业。韩国《每日经济》18日的报道称,有分析认为,在中国设有生产基地的三星电子和SK海力士,有可能面临无法升级工艺升级关键设备的风险。


报道称,SK海力士位于江苏省无锡市的芯片工厂改造计划或因美方的反对而落空。SK海力士计划在无锡半导体工厂引入荷兰阿斯麦尔(ASML)的极紫外线(EUV)光刻机,来提高工艺技术的稳定性。但这一计划恐遭到美方反对,理由是“担心中国或将此项技术运用于提高军事能力,从而对美国产生安全威胁”。当被问及是否允许 SK 海力士向中国工厂引进 EUV设备时,一名白宫高级官员表示拒绝置评,但他重申拜登政府坚持防止中方利用美国及其盟国技术开发尖端半导体这一方针不会改变。


ASML生产的EUV光刻机是半导体微加工必不可少的尖端装备,SK海力士今年2月与ASML签订了到2025年进口约20台EUV设备的合同。SK海力士在韩国和中国都有DRAM半导体工厂。韩媒称,如果光刻机无法运抵中国,中国工厂的工艺升级可能会延迟。对此,SK海力士相关负责人表示正为明年下半年或2023年在中国引进光刻机设备做准备。有分析认为,如果美国的对华半导体设备整体制裁收紧,那么三星电子在华工厂升级工艺同样也将遇到困难。韩国汉阳大学教授朴宰根表示,实际上美国政府已经宣布不允许高精度光刻机进入中国,“美国政府不仅要求包括三星电子和SK海力士提交企业商业秘密,现在还阻止韩国企业升级在华设备,这做得太过分了。”


(中国粉体网编辑整理/星耀)

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